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在光ä¼�厂的生产过½E‹ä¸åQŒç¡…片表é�¢çš„æ¸…洗臛_…³é‡�è¦�。其ä¸å¸¸ç”¨çš„RCA清洗æ–ÒŽ(gu¨©)³•å�?qi¨¢ng)åŸºäºŽæ¤æ–Ò?gu¨©)³•的改˜q›ï¼Œæ¸…洗时有特定的æ�¡ä»¶è¦�求。一般需åœ?5 - 85℃下清洗大约15分钟åQŒéš�å�Žç”¨åŽÈ�¦»å�水冲洗òq²å‡€åQŒè¿™æ ¯‚ƒ½æœ‰æ•ˆæ¸…除¼‹…片上诸如蜡ã€�æ�¾é¦™ç‰æœ‰æœºç‰©ä»¥å�?qi¨¢ng)金ã€�铜½{‰é‡�金属æ�‚è´¨ã€?/span>
高温½Iºæ°”èƒ½çƒæ³?/strong>在满‘³ç¡…片清‹z—çš„çƒæ°´éœ€æ±‚æ–¹é�¢è¡¨çŽ°å‡ºä¼—ã€‚åœ¨å›½å¤–åQŒå•†ç”¨å’Œæ°‘ç”¨çƒæÜ‡(ch¨¥)技术已¾l�相当普å�?qi¨¢ng)ã€‚é«˜æ¸©ç©ºæ°”èƒ½çƒæÜ‡(ch¨¥)有ç�€æœ‰æ•ˆã€�节能ã€�环ä¿�且利用å�¯å†�生资æº�ç‰ä¼˜åŠ¿åQŒè¿‘òq´æ�¥å�‘展˜q…速。然而,目å‰�å¸?j¨¬ng)åœºä¸Šå¤šæ•°çƒæ³µè®¾å¤‡äØ?f¨´)ä½Žæ¸©çƒæÜ‡(ch¨¥)åQŒè¾“出温度低äº?5℃,出水温度低,å�—地区性和™å¹ç›®ä½¿ç”¨ç‰ÒŽ(gu¨©)€§é™�åˆÓž¼Œä½¿ç”¨èŒƒå›´æœ‰é™�ã€?/span>

‹Æ§éº¦æœ—高温空气æº�çƒæÜ‡(ch¨¥)技术在˜q™æ–¹é�¢æœ‰æ‰€½H�ç ´ã€‚å…¶ä¸€åQŒè¾“å‡ºçƒæ°´æ¸©åº¦é«˜åQŒè•žé«˜å�¯è¾?5℃,能够满èƒö¼‹…片清洗å¯ÒŽ(gu¨©)¸©åº¦çš„è¦�求。其二,˜q�行费用低,åœ?0℃环境温度下åQŒäñ”ç”?0â„ƒçƒæ°´æ—¶åQŒå…¶è´¹ç”¨ä»…䨓(f¨´)ç”?sh¨´)åŠ çƒçš?0%åQŒæ˜¯ç‡ƒæÑa(b¨³)åQˆæ°”åQ‰çš„60%åQŒè¿™å¯¹äºŽå¤§è§„模的光ä¼�厂清‹z—工作æ�¥è¯ß_(d¨¢)¼Œèƒ½è¾ƒå¤§é™�低æˆ�本。其三,采用专用制冷剂,æ�¢çƒæ•ˆçŽ‡é«˜ä(sh¨´)¸”å¯¹çŽ¯å¢ƒæ— æ±¡æŸ“åQŒç»¿è‰²çޝä¿�,½W¦å�ˆå…‰ä¼�产业å�¯æŒ�¾lå�‘展的需求。其四,æ ÒŽ(gu¨©)�®åŽÈ�¦»å�æ°´çš„è¦�æ±‚ï¼ŒçƒæÜ‡(ch¨¥)å�¯é‡‡ç”¨è¿‡‹¹�æ��质防æ¢å¯¹åŽŸæœ‰æ°´è´¨çš„ç ´å��,¼‹®ä¿�清洗˜q‡ç¨‹ä¸åŽ»¼›Õd�水的水质ä¸�å�—å½±å“�åQŒä»Žè€Œä¿�障硅片清‹z—的质é‡�ã€?/span>

¾lég¸Šæ‰€˜qŽÍ¼Œé«˜æ¸©½Iºæ°”æº�çƒæ³µå°¤å…¶æ˜¯‹Æ§éº¦æœ—高温空气æº�çƒæÜ‡(ch¨¥)技术在光ä¼�厂硅片清‹z—æ–¹é�¢æœ‰ç�€å¾ˆå¤§çš„应用潜力,为光ä¼�äñ”业的å�‘展æ��ä¾›äº?ji¨£n)有力的支æŒ�ã€?/span>
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